設備狀況查詢

設備編號聯絡窗口電子郵件名稱狀態說明註解更新日期
C01-03劉信良 kentliu@narlabs.org.tw 化學機械研磨系統-CMP1(NEW)IDLE  2020/02/17 23:00:00
C01-04劉信良 kentliu@narlabs.org.tw 化學機械研磨系統-CMP2(NEW)IDLE  2020/02/17 23:00:00
C02-02劉信良 kentliu@narlabs.org.tw 化學機械拋光後清洗機(NEW)IDLE 請注意: 1.目前機台只提供DI water清潔使用。2020/02/17 23:00:00
C05-DHF彭馨誼 hypeng@narlabs.org.tw RCA(爐管前清洗機)-DHFIDLE 設備開放,可正常使用2020/02/17 23:00:00
C05PR-BOE彭馨誼 hypeng@narlabs.org.tw PR(光阻去除及光罩清洗機)IDLE 設備開放,可正常使用2020/02/17 23:00:00
C05PR-METAL彭馨誼 hypeng@narlabs.org.tw PR(光阻去除及光罩清洗機)-METALIDLE 設備開放,可正常使用2020/02/17 23:00:00
C05PR-SPM1彭馨誼 hypeng@narlabs.org.tw PR(光阻去除及光罩清洗機)-SPM1IDLE 設備開放,可正常使用2020/02/17 23:00:00
C05PR-SPM2彭馨誼 hypeng@narlabs.org.tw PR(光阻去除及光罩清洗機)-SPM2IDLE 設備開放,可正常使用2020/02/17 23:00:00
C05-SC1彭馨誼 hypeng@narlabs.org.tw RCA(爐管前清洗機)-SC1TRAINING 設備開放,可正常使用2020/02/17 23:00:00
C05-SC2彭馨誼 RCA(爐管前清洗機)-SC2TRAINING 設備開放,可正常使用2020/02/17 23:00:00
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機台狀態說明:
IDLE:可用;MANUAL:自行操作;RUN:使用中;DOWN:機台維修、歲修;EXAM:考核中;TRAINING:儀器操作訓練;MONITOR:機台監控;PM:機台校正、例行維護;TEST:機台測試;